高嶺土插層效果表征

用X射線粉晶衍射、紅外光譜、熱分析和核磁共振可以對高嶺石/有機插層復合物的性能進行表征。通過對這些數(shù)據(jù)的分析，可以確定高嶺石/有機插層復合物的層間距、插層率、熱穩(wěn)定性和分子結(jié)構(gòu)。

(1)X射線粉晶衍射:有機分子插入高嶺土加工工藝的的層間，對高嶺石的層間距會產(chǎn)生或多或少的影響，因此，XRD是檢測有機分子是否插入高嶺石層間的較好方法之一。通過對比有機小分子插入前后，高嶺石層間距的大小，就可以知道有機分子是否插入高嶺石的層間。高嶺石的層間距(strongasal spacing)為0.716nm，其層間域(interlayer spacing)為0.292nm。當有機分子插入高嶺石的層間域后，使用先進的高嶺土加工技術(shù)，引起層間域的膨脹，其層間距也相應地增加，XRD的辦d001值可以直接反映出這種變化。插層復合物形成后，而d001=0.716nm的衍射峰變?nèi)?，而隨著插層物的不同代之以不同層間距的衍射峰。因此層間距變化是評價有機分子是否插入高嶺石層間的較直接的方法。

層間距的變化可以用于判斷有機分子是否插入高嶺石的層間，但卻不能表明插層作用的完全程度。瞿金蓉等(2003)利用X射線粉晶衍射和激光拉曼光譜實驗分析高嶺石及其乙酸鉀插層物的結(jié)構(gòu)。從高嶺石/乙酸鉀插層復合物的X射線粉晶衍射分析可以清楚地看到，乙酸鉀已成功地插入高嶺石層間，使得高嶺石的d001由0.720nm增加到1.420nm，其插層率可達73%。

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